半導(dǎo)體工業(yè)在加工的過程中會使用到光刻膠、蝕刻液、清洗劑、顯影劑等溶劑，而這些溶劑是含有大量的有機物成分，排放出來的廢氣含有HCl、氨、HF等危險污染物，而主要處理的是具有揮發(fā)性的VOCs。VOCs污染物為有機化合物，在濃度較高且有火花或靜電情況下，極易發(fā)生閃爆現(xiàn)象。半導(dǎo)體在制造過程中一般的污染源包括顆粒污染物、金屬離子和化學(xué)物質(zhì)等，而這些都是屬于有害的污染物。

　　廢氣來源：在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線造成環(huán)境污染的有害氣體，主要來源于芯片生產(chǎn)的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中。

　　廢氣特點：半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線廢氣具有排氣量大、濃度小的特點。

　　主要危害：半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)線對大氣的污染，主要是器件清洗等表面處理過程中因使用一些化學(xué)藥劑（如硫酸、鹽酸、氟氯化碳、四氯化碳、三氯乙烷及其他有機鹵化物）揮發(fā)造成對大氣環(huán)境的污染，以及整機裝配過程中產(chǎn)生的機械噪聲和少量粉塵也會造成環(huán)境污染，這些污染氣體會造成人群慢性或急性中毒。

　　半導(dǎo)體廢氣處理方法根據(jù)工業(yè)廢氣成分進行廢氣處理設(shè)備的選擇。

　　半導(dǎo)體廢氣處理工藝采用催化燃燒裝置：

　　RCO催化燃燒設(shè)備的運作原理是將有機廢氣通過過濾器過濾后，進入設(shè)備的活性炭吸附模塊，對廢氣進行吸附、濃縮，再借助催化劑燃燒的方式對吸附、濃縮后的廢氣進行凈化處理，燃燒的過程為無焰燃燒，燃燒后的廢氣會轉(zhuǎn)化為二氧化碳和水。

　　在催化氧化爐內(nèi)被加熱到250～300℃的有機廢氣在貴金屬催化劑的作用下發(fā)生無焰燃燒，有機廢氣被氧化分解成二氧化碳和水，達到廢氣處理的目的，廢氣處理后的潔凈氣體經(jīng)煙囪達標排放。燃燒后的熱空氣通過換熱器進行降溫，降溫后的氣體部分排放，部分用于活性炭脫附再生以達到廢熱利用和節(jié)能的目的。

　　半導(dǎo)體工業(yè)廢氣是具有毒性的，不同的工業(yè)采用的工藝原材料不同，因此采用的廢氣處理設(shè)備以及工藝都是不一樣的，具體的處理方案可咨詢我們

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　　相關(guān)小知識：

　　半導(dǎo)體有害因素有哪些？

　　電子行業(yè)主要涉及半導(dǎo)體、集成電路、電子元件的生產(chǎn)與裝配，常見的職業(yè)危害包括有毒化學(xué)物質(zhì)，常見的有四氯化碳、苯類、三氯乙烯、酸類、環(huán)己酮、丙酮、鉛等，此外還存在噪聲、金屬粉塵、高頻、電離輻射等有害因素。