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15720490226提煉硅產生酸氣怎么凈化處理
半導體廠主要生產半導體原材料，比較高純度的硅，在提煉硅的時候，可能存在空氣和水污染。空氣污染主要來源于在處理過程中揮發出來的酸性氣體，水污染除了有加工使用的化學物質外，還可能帶來重金屬的污染。
常見的有四氯化碳、苯類、三氯乙烯、酸類、環己酮、丙酮、鉛等，此外還存在噪聲、金屬粉塵、高頻、電離輻射等有害因素。
處理酸性氣體采用酸霧處理塔，又可稱為酸霧凈化塔，酸霧凈化器，酸霧洗滌塔，酸霧凈化設備，酸霧廢氣處理塔等。
酸堿噴淋塔的結構組成
酸堿廢氣處理塔分單塔體和雙塔體。采用了圓形塔體，用法蘭分階段相連接而成。具體的由貯液箱、塔體、進風段、噴淋層、填料層、旋流除霧層、出風錐帽、觀檢孔等組成。
有機廢氣和含有酸性/堿性物質的廢氣。
對于含有酸性/堿性物質的廢氣，半導體廠大多采用大型洗滌式中央廢氣處理系統進行處理。但由于半導體制造工作區域離中央廢氣處理系統距離較遠，因此部分酸性/堿性廢氣在輸送z中央廢氣處理系統前，常因氣體特性導致在管道中結晶或粉塵堆積，造成管道堵塞后導致氣體外泄，嚴重者甚z引發爆炸，危害現場工作人員的工作安全。
酸堿廢氣處理工藝流程
酸堿廢氣處理具體的工藝流程：除去的酸霧煙氣→進入到風管→歷經酸堿噴淋塔凈化處理處理→風機→風管→達標排放
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