半導體制造行業廢氣凈化設備安裝

　　半導體產業中主要成分為異丙醇、光刻膠等有機物，在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。

　　在某半導體企業的廢氣除臭設備的設計安裝中我公司采用了光解除臭設備其脫臭效率可99%，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭物質排放標準（GB14554-93），能處理氨、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、苯、苯乙烯、二硫化碳、三甲胺、二甲基二硫醚等高濃度混合氣體，內部光源可使用三年，設備壽命在十年以上，凈化技術可靠且非常穩定，凈化設備無須日常維護，只需接通電源即可正常使用，且運行成本低，無二次污染。

　　采用吸附工藝技術，如何使用吸附工藝技術處理半導體廢氣？

　　吸附是利用多孔性固體吸附劑處理混合氣體，使其中所含的一種或多種組分吸附于固體表面上，達到分離的目的。吸附劑選擇性高，能分開其他過程難以分開的混合物，有效地清除（或回收）濃度很低的有害物質，凈化效率高，設備簡單，操作方便，且能實現自動控制。

　　半導體酸廢氣處理通常采用廢堿液體噴淋法，又稱化學洗滌法。對于含有酸性/堿性物質的廢氣 ，半導體廠封閉車間大都采用大型廢氣凈化塔進行廢氣處理。

　　沸石轉輪吸附濃縮裝置

　　沸石轉輪吸附濃縮裝置主要用于有機廢氣的治理， 特別適合于大風量，低濃度場合。

　　TO直燃爐(催化燃燒裝置)：對大風量、低濃度的VOCs廢氣，TO直燃爐一般會搭配沸石轉輪使用。

　　在很多半導體企業單一的廢氣凈化設備已經不能夠解決其問題，就延伸出來組合式的廢氣處理工藝，目前在市場上，工業廢氣處理主要采用的是焚燒或者是吸附的方法，還有一種少見的熱氧化法，但是由于廢氣中的有機物會被氧化掉，所以只有在大流量、低濃度的氣體的情況下使用該方法。

　　更多關于半導體企業廢氣處理設備的設計安裝方案可以咨詢我公司技術人員。